EP073 科技周報 - 烏俄戰爭長期化對半導體產業的影響：曝光與蝕刻製程的關鍵材料【曝光光源歷史演進介紹】

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內容描述

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本集又回到久違的JBpress社論系列，我們帶大家來看湯之上隆先生四月號的評論，主要解說《烏俄戰爭長期化的危機，半導體工廠停工之日》，會帶大家來看看烏俄戰爭對半導體產業有什麼樣的影響，哪些關鍵材料的進出口會因此受到阻礙。同時本篇也會聊聊社論有提到的內容，關於黃光/曝光/微影製程的歷史進展，曝光光源的演進，也會講講在蝕刻氧化膜所用到的CF系氣體概要。

本集內容
(1) 半導體製程曝光光源的演進：i-line - KrF 248nm - ArF 193 nm Dry - ArF 193 nm Immersion - EUV。
(2) 曝光機台領導廠商艾斯摩爾 ASML在2020年與2021年各機台的出貨量。
(3) 烏俄戰爭中受到影響的曝光光源材料。
(4) 半導體製程蝕刻氧化膜製程所需要的氣體：CF系。
(5) 烏俄戰爭對於關鍵氣體C4F6供貨的影響。

本集引用的社論
ウクライナ戦争長期化で危惧される、半導体製造がストップする日
https://jbpress.ismedia.jp/articles/-/69603

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